The current trends of optics and photonics 總編輯 : Lee, Cheng-Chung (Ed.) 出　版 : Springer, ISBN 978-94-017-9392-6, 2015 Abstarct: To deposit a thin film coating with the correct thickness and refractive index is very important for precision optics. There are several methods have been proposed to monitoring the thickness of each layer for a multilayer optical filter during the coating process. Among those methods, the optical monitoring is generally thought better than other methods to manufacture optical filters, because it has error compensations which cannot be provided in other monitor methods. For the manufacture of some delicate optical filters with the high defect rate, the optical monitor with higher monitoring precision and better error compensation ability is necessary. For thin film stack which is being deposited, the refractive indices of the material usually change and the thickness usually has deviation from the design. Therefore the suitable thickness of the successive layer would not be the same as what we expected in the original design, and the termination point of each thin film layer needs to be revised. However, the conventional optical monitoring methods never analytically solve this problem. In this book, the optical behaviors of the growing films were analyzed and the corresponding simulations were demonstrated. Sensitive monitoring wavelengths were chosen in the single wavelength monitoring by numerical analysis to achieve precise monitor. Equivalent Optical admittance loci of the deposited films were employed to find the correct error compensation for each layer.

薄膜光學與鍍膜技術(八版) 作　者 : 李正中 出　版 : 藝軒出版社, ISBN 978-986-394-014-2, 2016 簡　介 : 光學薄膜是指在光學元件上或獨立基板上鍍上一層或多層之介電質膜或金屬膜或介電質膜與金屬膜組成之膜堆來改變光波傳遞的特性。所以薄膜光學這一門科學，即在研究光波在這些薄膜中行進的現象與原理。包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位變化等，進而設計及製造各種單層及多層之光學薄膜來達到科學與工程上的應用。本書包含上述之原理解說及實驗介紹，可當教科書、工程師之工具書及研究參考書，適合專業人士和學生研讀。

Optical Admittance Lori Monitoring for Thin Film Deposition 作　者 : 李正中、K. Wu、T. L. Ni 著 出　版 : LAP LAMBERT Academic Publishing GmbH & Co. , ISBN 978-3-659-00198-7, (2012) To deposit a thin film coating with the correct thickness and refractive index is very important for precision optics. There are several methods have been proposed to monitoring the thickness of each layer for a multilayer optical filter during the coating process. Among those methods, the optical monitoring is generally thought better than other methods to manufacture optical filters, because it has error compensations which cannot be provided in other monitor methods. For the manufacture of some delicate optical filters with the high defect rate, the optical monitor with higher monitoring precision and better error compensation ability is necessary. Several optical monitoring methods have been reviewed, and novel monitoring techniques have been introduced for precision optical coatings.

光学薄膜と成膜技術 譯自中文版”薄膜光學與鍍膜技術” 作　者 : 李正中 著; 翻譯: (株) 出　版 : 日本出版社 , ISBN 978-4-901496-01-8 C3054 ,(2008年第四刷) 光学薄膜は、光通信、ディスプレイ、光学デバイスなどの応用において大きく発展することが期待される重要な分野である。その基礎から応用までを網羅した本書は、台湾国立中央大学李正中教授によって書かれ、台湾で出版、好評により版を重ねている。次世代光学薄膜の成膜技術の開発を行ってきた株式会社アルバックは、社内に本書の翻訳プロジェクトを組み、このたび日本語版発行がようやく実現した。この分野では数少ない実践的な教科書として役立つこと必至の一冊である。

光電科技概論(Introduction to Optics and Photonics)(第二版) 總編輯 : 李正中、楊宗勳 作者群 : 李正中、楊宗勳、孫文信、游漢輝、陳昇暉、欒丕綱、張正陽、歐陽盟、鄭益祥、鍾德元、陳彥宏、梁肇文、郭政煌、戴朝義、伍茂仁、陳啟昌、孫慶成 出　版 : 五南出版社, ISBN978-957-11-5937-9 , 2010 (2011年5月二刷) 簡　介 : 本書提供一個完整的光電科技學習背景知識，利用少量的數學運算，將箇中要義以口語與圖片深入淺出陳述，適合有志進入光電領域者閱讀。 本書依深淺度從基礎篇、進階篇至應用篇引領讀者進入光電科技的殿堂。基礎篇主要介紹光電科技的基礎知識，包括幾何光學、波動光學、干涉光學、傅氏光學、光電學、光電材料及輻射與檢測；進階篇為基礎篇之延伸，包括全像、雷射、非線性、光學檢測、薄膜光學、色彩學、光電半導體、積體光學及光子晶體；應用篇則是舉出當今光電科技常應用的領域，包括微奈米光學、微光機電系統、顯示科技、光通訊、固態照明、光儲存及太陽能光電。 本書適用於光電系、電機系、電子系、機械系、材料系、化工系、物理系等理工科系作為光電科技概論之教科書，對於有興趣學習光電科技的社會人士更是值得一讀的入門參考。

專書及書章節著作

中文:

1. 衛泰宇, 李正中, “光學薄膜製鍍技術及應用”, 國科會光電小組, 光電科技資料叢書之二十七, (1998年10月).

2. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第一版, 1999年12月, ISBN 957-616-567-9).

3. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第二版, 2001年1月, ISBN 957-616-620-9).

4. 李正中, “真空鍍膜系統”, “真空技術與應用”第十三章(合著書), 國科會精密儀器發展中心出版, 新竹市, 2001年7月, ISBN 957-02-8675-X.

5. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第三版, 2002年6月, ISBN 957-616-699-1).

6. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第四版, 2004年8月, ISBN 957-616-780-9).

7. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第五版, 2006年7月, ISBN 957-616-884-8).

8. 李正中, “光學鍍膜”, “光學元件精密製造與檢測”第九章(合著書), 國家實驗研究院儀器科技研究中心出版, 新竹市, 2007年5月, ISBN 978-986-81409-3-6.

9. 李正中 楊宗勳 總編輯, “光電科技概論”, 中央大學光電系全體教師合著, 五南圖書出版公司, 台北, 2008年9月, ISBN 978-957-11-5305-6.

10. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第六版, 2009年7月, ISBN 978-957-616-951-9).

11. 李正中 楊宗勳 總編輯, “光電科技概論”, 第二版, 中央大學光電系全體教師合著, 五南圖書出版公司, 台北, 2010年3月, ISBN 978-957-11-5937-9. (2011年5月二刷)

12. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第七版, 2012年4月, ISBN 978-957-616-970-0).

13. 中華民國光電學會(擔任召集人), “LED工程師基礎概念與應用”，五南出版社，ISBN：9789571166599 (2012). (Fundamental and Applications of LED Engineers)

14. 李正中, “薄膜光學與鍍膜技術”, 藝軒出版社, 台北, (第八版, 2016年6月, ISBN 978-986-394-014-2).

英文:

1. D. T. Wei, H. R. Kaufman and C. C. Lee, “Ion Beam Sputtering” Chapter of “Thin Films for Optical systems” Ed. By F.R. Flory, Marcel Decker Inc. (1995), ISBN 0-8247-9633-0.

2. C. C. Lee and S. Ogura, “Optical Thin Film and Coatings” in book of “Handbook of Optical Metrology-Principle and Application”, Ed. By Toru Yoshizawa, 2009, CRC Press Taylor & Francis Group, IBSN 978-0-8493-3760-4.

3. C. C. Lee, K. Wu and T. L. Ni, “Optical Admittance Loci Monitoring for Thin Film Deposition"  2012/May, LAP LAMBERT Academic Publishing GmbH & Co. (ISBN 978-3-659-00198-7)

4. C. C. Lee and C. C. Kuo, “Coatings for display and lighting”, Chapter 15 in Book “Optical thin film and coatings” Ed by A. Piegariand and F. Flory, Woodhead Publishing Limited, (ISBN 978-0-85709-594-7) (2013)

5. C. C. Lee ed. “THE CURRENT TRENDS OF OPTICS AND PHOTONICS”, Springer, IBSN 978-94-017-9391-9, 2014

日文:

1. 李正中, “光學薄膜と成膜技術”, ULVAC 譯 (日文), 株式會社 成光社, 東京, 2002年9月, ISBN 4-901496-01-8 C3054.

2. 李正中, “光學薄膜と成膜技術”, ULVAC 譯 (日文), 株式會社 成光社, 東京, 2003年5月二刷, ISBN 4-901496-01-8 C3054.

3. 李正中, “光學薄膜と成膜技術”, ULVAC 譯 (日文), 株式會社 成光社, 東京2005年8月三刷, ISBN 4-901496-01-8 C3054.

4. 李正中, “光學薄膜と成膜技術”, ULVAC 譯 (日文), 株式會社 成光社, 東京, 2008年7月四刷, ISBN 4-901496-01-8 C3054.