余業緯
孫慶成

本研究針對體積全像光學元件(Volume Holographic Optical Element, VHOE)的品質檢測提出了一套新方法。透過設計與記錄體積全像光柵，結合光學繞射斷層掃描(Optical Diffraction Tomography, ODT)技術，實現了 VHOE 相位分布的準確量測及折射率分布重建。在有嚴格控制雜訊的研究結果表示，製程時間的長短對繞射效率的影響不大，但對體積全像光柵品質的影響是極大的。 本研究針對VHOE提出了有效的可視化雜訊分析方法，系統性地探討這些問題對全像光柵品質的影響，並據此提出製程優化建議。結果表明，透過控制製成環境與參數，可以顯著改善 VHOE 的折射率結構穩定性與光學性能。本方法為高品質 VHOE 的設計與應用提供了實用的分析工具與理論依據，對體積全像光學元件製造領域具有重要的參考價值。