郭倩丞

干涉儀在光學元件測量扮演著不可或缺的角色，其在檢測表面平整度中 功不可沒。現今許多大型光學元件應用於國防、天文等行業，子孔徑干涉術 儼然成為未來趨勢。若檢測技術能夠提升，在光學元件製作工藝上就能繪出 嶄新的篇章。 相較於以往使用球面標準鏡進行曲面量測，在本研究中，將會提出了全 新的量測方法，既是以平面標準鏡作為干涉儀架構來檢測球面樣品。通過將 樣品劃分為多個子孔徑進行拼接，能夠減少干涉條紋擷取時引入的像差，同 時也能突破量測範圍的限制。 本文將會從使用到的五步相移干涉術及子孔徑拼接干涉術等基礎理論， 延伸至後續實驗的進行。為了確保實驗量測的準確性，在實際量測前，會將 相位模擬引入該演算法中進行分析與討論。根據實驗結果顯示，目前可量測 範圍可達總面積70%。在平面量測中，方均根誤差能達到0.0139wave。球 面樣品的曲率半徑誤差可達到約2%，系統架構可量測樣品極限為±833mm。 驗證了本實驗的可行性。 總言之，本實驗架構以平面標準鏡頭取代球面標準鏡頭，不但能有效的 降低標準鏡頭購置的成本，對於操作人員的專業度要求也降低了許多。在光 學檢測中提出嶄新的做法，唯有在誤差校正及量測範圍中仍有可持續進步 的空間。