王智明

本篇論文使用奈米壓印技術製作公分等級的奈微米元件，旨在取代電子束微影及傳統曝光機的方式，以達到製作公分等級元件及大量生產的目的。奈米壓印技術相較於傳統方法，具備低成本、效率高及製作快速的優勢。實驗中，我們成功使用了熱壓成型奈米壓印和光固化奈米壓印兩種技術，製作出公分等級的光柵元件。這些光柵元件主要應用於光導中的擴瞳功能。此外，我們利用嚴格耦合波分析法（Rigorous coupled-wave analysis，RCWA）對光柵的繞射效率進行模擬，並將模擬結果與實際測量結果進行比較。結果顯示，模擬結果與量測結果的誤差小於5%，證明了我們製作的光柵元件在光學性能上的高一致性和可靠性。這一研究成果展示了奈米壓印技術在製作高精度、大面積光學元件方面的巨大潛力，並為未來的光學元件製造提供了一條高效、可行的技術路徑。本研究的成功不僅為光導元件的製造提供了新的解決方案，也為擴展奈米壓印技術在其他光學和電子元件中的應用奠定了基礎。未來，我們將進一步優化壓印工藝，提升元件性能，以滿足更多應用需求。