余業緯

本論文主要基於波動光學原理，與由孫慶成博士所提出的VOHIL演算模型，推演出體積全像元件數值模擬模型，分析在不同參數下所對應的繞射光分佈，包含記錄介質的材料的折射率、材料厚度，紀錄光源與讀取光源等會影響繞射電場於空間的分佈的因素。 我們根據波動光學純量繞射理論與相位疊加法為基礎，引用同軸全像儲存系統的模型，提出同軸式體積全像元件光學模型，並且依據電磁波方程式，推導出當全像底片於寫入與讀取過程，在系統輸出面繞射電場的分佈，並且改寫以角度場表示其解析解。 此模型的優勢在於我們於推導過程中，紀錄光源與讀取光源為以光場分佈式作為運算基礎，對於不同光源計算上的便利性有很大的助益，簡化了運算難易度與辨識度。並且模型中考慮了會對繞射光場影響的因素，針對不同規格所設計的體積全像元件，我們可以輸入影像，觀察並比對其輸出影像差異，例如繞射位置、繞射波長對應色彩、分佈視角等影像資訊。