王智明

本論文利用自製曝光機並以灰階光罩的方式來製作微光學元件。灰階光罩能提供不同的曝光強度，所造成的曝光差異會產生不同的光阻厚度，並具有只需一次的曝光步驟的優點，可適用於具有灰階度或連續曲面形狀的光學元件。我們所使用的自製灰階曝光機為結合電腦輸入的影像，經由數位光源處理投影技術將圖案投影在基板上即可曝光，這樣可以方便變換不同的光罩圖案。 以灰階光罩製作光學元件之微影製程與一般半導體製程大致相同，主要包含基板清洗、光阻塗佈、曝光、顯影等步驟，而元件分別有二元式繞射光柵、閃耀式繞射光柵、利用電腦產生全像片、菲涅耳透鏡以及莫爾透鏡，再利用自製灰階曝光機以及黃光微影製程來製作出所需的元件。