學術研究

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畢業論文
以脈衝式磁控濺鍍法製作氧化銦鎵鋅薄膜電晶體之研究 姓名 : 林育鴻

指導教授
陳昇暉


論文摘要
近年來受新冠疫情影響,人類生活方式有著重大轉變,在減少人與人直接接觸的同時,仍需兼顧正常的資訊交流,因此需更多視訊顯示設備;以及智慧、自駕車在市場上關注度日漸攀升,連帶汽車內部相關顯示器需求提高。發展至今,多數顯示器仍依賴技術成熟且成本低廉的a-Si TFT LCD為主,然而a-Si材料有者致命的缺點,在於其載子遷移率無法提升,來滿足高端顯示器產品需求,因此科研人員積極尋覓其他材料做替換,有各種新興材料被提出與研究,其中就屬IGZO表現最為出色,能有高遷移率、低漏電流、均勻性和適合低溫製程等優勢。 本論文研究主軸會分為兩部分,第一部分會以脈衝式磁控濺鍍法沉積IGZO薄膜,透過調變UV光照基板的時間以及薄膜氧氣通量,並利用Hall、XRD與AFM量測證明,利用此方法能製作出載子濃度高,且表面粗糙度低的高品質薄膜;第二部份,則是將濺鍍的高品質薄膜,藉由黃光微影製程為薄膜電晶體,首先會去調製最合適的氧氣通量與通道層厚度,最後會將通道層分為雙層,進一步優化元件載子遷移率以及On/Off ratio。



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