鄭恪亭

　　本研究將負型光阻SU-8塗佈於鍍有氧化銦錫(Indium tin oxide，簡稱為ITO)之玻璃基板表面，經黃光微影(Photolithography)製程於基板上製作週期約為30 μm的光阻/ITO光柵結構，光阻線寬約為16.4 μm，此光柵為表面浮雕光柵(Surface-relief grating)，並於結構上方塗佈PVA進行水平摩擦配向處理，搭配另一片塗佈PVA經水平摩擦配向處理之ITO玻璃基板組成可電控之光柵液晶盒。 　　首先，我們經由實驗得知負型光阻SU-8對外加直流電場有明顯的屏蔽效應(Shielding effect)，而對外加交流電場的影響則較微弱，並嘗試以電雙層理論及RC電路模型解釋基板表面塗佈光阻薄膜對液晶盒內部電場的影響。由此推論在外加直流或交流電場作用下，液晶分子將於塗佈光阻區域經歷較弱的有效電場，於無塗佈光阻區域經歷較強的有效電場。其次，兩區域亦因表面電位(Potential)差異形成橫向電場(Transverse electric field)，造成兩區域邊界之液晶分子於靠近光阻結構一側(但非基板表面處)有略為偏離摩擦配向方向之現象，由於液晶材料具有彈性體之物理性質，故液晶分子於兩區域邊界處之排列應為連續且漸變的，此現象亦造成該區域產生相位延遲及偏振特性的改變。最後，我們沿用Zhan He教授團隊量測光柵液晶盒偏振特性之方法及理論基礎，探討摩擦配向方向平行及垂直於光柵條紋結構方向之各階繞射光繞射效率及其偏振特性。