學術研究
畢業論文
以低壓化學氣相沉積成長六方氮化硼薄膜於矽基板其均勻性與時間可靠性之研究
姓名 : 韋人豪
指導教授
陳昇暉
論文摘要
本研究旨在利用低壓化學氣相沉積法以高溫石英爐管在矽基板上成長六方氮化硼薄膜，發現當沉積時有大量的雜質包含在六方氮化硼薄膜裡，會造成薄膜在大氣下容易剝落，所以我們改善了爐內腔體環境，並使六方氮化硼薄膜在大氣下更加穩定可靠。
在高溫石英爐管內沉積的六方氮化硼薄膜，發現基板位置會嚴重影響薄膜均勻性，也必須要足夠的前驅物來反應，我們最終得到六方氮化硼的拉曼光譜圖半高寬在30~40 cm-1，拉曼特徵峰(E2g 振動模式)在1369~1372 cm-1。
