郭倩丞

在傳統的波導模態共振濾波器中為了達到濾波的效果，需使用較多道製程來完成，近年來半導體產業的快速發展對線寬的要求越來越小，原子層沉積技術因具有極佳的均勻性和保形性，本論文將原子層沉積技術應用在矩形光柵波導結構上，藉由改變等效折射率的方式達到濾波的效果。 利用稜鏡浸潤式干涉微影系統製作出週期為0.405 μm光柵波導結構，並成功利用PEALD在製程溫度60 ℃下，沉積0.03 μm HfO2薄膜於光阻光柵結構上。 利用Rsoft分析HfO2薄膜於波導模態共振結構之光譜變化。在加入HfO2薄膜後TE模態共振點的消光比從原本的3727增加到36943。 並模擬出多模態非偏振濾波效果，同一階模態共振點的TE及TM波長差僅小於0.5 nm ，穿透率皆小於1%，在線寬表現上FWHM皆低於0.02 μm。