張榮森

面板廠在設計階段時，常常擺在第一重點的就是穿透率，常常需要達到穿透率的要求就會去犧牲某些條件，或是成本的提高來達到要求。所以在設計單位常常需要解決此方面的困境，如果只是單純將設計稍加變更，並與理論搭配，是有機會達到這樣的要求。 在面板基本的架構下，背光穿透不同Cell層都會讓光的亮度損失，所以傳統設計中，會將彩色濾光片做不同類型色組與膜厚的搭配；或是將背光更換成不同類型的LED型態，但這些是犧牲紅、綠、藍、白的色點偏移或是一些成本上的加乘，來達到穿透率增加。但應該可以改善面板內部設計，來增加穿透率。 所以特別研究不同Pixel設計:1Dot 1 Domain、1Dot 2 Domain、2Dot 2 Domain 發現各有各自優缺點； TFT薄膜電晶體 (Thin-film transistor)側的ITO(銦錫氧化物)做不同寬度下的設計，並搭配上不同角度的配向膜與BM寬度的設計，進行穿透率的提升的因素，可以達到整體高穿透率優化的主要因素。 並使用田口法分析，確認何種條件下的搭配確實會提升穿透率，並將產品產出，藉由實際量測確認效果是否如此。 在使用負型液晶條件下，16μm下的Pixel穿透區中將ITO(銦錫氧化物)寬度縮小至2.5μm、使用3根ITO、BM 寬度為5μm、配向角為0度，此樣的條件下，確實可以達到穿透率為5.6%，對比約為1800左右。在相同架構下但未最佳化的情況，穿透率最差可能來到4.3%，此優化可以提升30%的穿透率。