學術研究
畢業論文
製作全像光學元件回饋半導體雷射以同時達成單縱模高斯光束輸出
姓名 : 蕭宇哲
指導教授
鍾德元
論文摘要
本研究利用自製高分子感光材料PQ-DMNA/PMMA 使用640 nm高同調長度雷射光以雙光束干涉記錄，在材料同位置二次曝光第一次為記錄穿透式光柵與第二次為反射式光柵，並將經過二次曝光後的PQ-DMNA/PMMA直接放置在雷射二極體(638 nm)前達成窄化雷射輸出光譜及高斯光束輸出。並使用雷射注入方式，將半導體雷射輸出窄化，拉長同調長度，並且利用此方法以半導體雷射達成全像記錄。
In this research, two optical element characteristic in one hologram was made by homemade PQ: DMNA/PMMA from using 640 nm high coherence laser to record. Then, using the recorded sample, which was manufactured by two-beam interference, feedback the 638 nm laser diode which spectrum was narrowed and transverse mode was shaped to Gaussian beam output. Finally, using laser injection lock to narrow the laser diode spectrum, and achieve the holographic recording.
