郭倩丞

近年來半導體產業的快速發展對線寬的要求越來越小，原子層沉積 技術因具有極佳的均勻性和保形性，隨即快速發展，應用領域也越來 越廣泛。 在光學方面的應用，隨著光學設計架構越來越複雜，出現了越來越 多的自由曲面或是微結構的透鏡，來取代光學元件的件數，而這些微 結構的光學元件在製造時使用成本較低的塑膠(如 PMMA、PC、Zeonex) 替代玻璃。 本實驗使用電漿輔助原子層沉積法鍍製，探討了單層膜在 60℃製程 下折射率與消光係數在不同功率和時間下的趨勢，也分析前驅物在 60℃製程下的反應性，並使用 X 射線光電子能譜儀分析薄膜中殘留的 碳、氮比例，推測其雜質是否影響光學性質。將不同參數的抗反射膜 鍍製於塑膠基板上測試其附著性與是否膜裂，最後鍍製於微型塑膠透 鏡上，並使用顯微鏡光譜儀量測透鏡各點在波段 420nm 到 680nm 抗反 射光譜圖及均勻性，平均反射率約為 0.78%。