陳昇暉

高能脈衝磁控濺鍍(HiPIMS)技術為目前新一代的鍍膜技術，此技術的特色是藉由調變脈衝控制器的中斷時間(off time)來使靶材在極短脈衝時間內產生高達kW/cm^2的能量，使電漿密度提升進而使靶材的游離率提高，讓鍍製出的膜變的更緻密，有效提高膜的品質。本實驗使用高功率脈衝磁控濺鍍系統(HiPIMS)來鍍製高硬度抗反射多層膜，實驗第一階段藉由改變脈衝參數使其光學及機械性質有明顯變化來做分析，實驗第二階段則是根據前面實驗參數藉由光學軟體模擬設計出高硬度的多層抗反射膜並鍍製出來，最後將實驗成品做分析，得平均穿透率為93.7%的多層抗反射硬膜且硬度達到18GPa。