鍾德元

本研究計畫使用新穎高分子感光材料PQ-DMNA/PMMA製作反射式體積布拉格光柵並利用動態模型模擬PQ與DMNA分子受到雙光束干涉曝光時濃度分布情形。接著使用耦合波方程式計算光柵之繞射效率。藉由改變入射光強度、曝光時間、初始PQ濃度與初始DMNA濃度獲取動態模型中之未知參數且實驗與模擬結果相當吻合。接著使用自製的反射式體積布拉格光柵回饋半導體雷射使得雷射縱向模態達到單縱模輸出且高功率輸出。最後利用全像紀錄方式設計與製作雙顆半導體雷射同調光束合併之元件。使用同調光束合併之元件回饋，不論單顆或雙顆雷射縱向模態輸出皆已達到單縱模輸出且雷射橫向模態也可經由光柵得已修正。但是雙顆雷射耦合輸出只有0.02之效率，推測原因為紀錄與讀取時波前不一致造成。但對於使用全像方式製作雙顆半導體雷射同調光束合併之元件之概念以驗證其可行性。