鍾德元

本研究計畫使用PQ-PMMA高分子感光材料擴散特性搭配雙光束干涉曝光法製作第二階的反射式體積布拉格光柵並且改變曝光強度與時間找最佳的曝光參數，以得到較高的第二階光柵繞射效率。因此本論文首先寫下PQ-PMMA光化學反應速率式，模擬PQ與光產物於曝光時，濃度空間上的分佈情形，並且利用分子濃度計算出空間中折射率變化分佈，並以傅氏級數分析得到PQ及光產物週期性空間分佈之第一階與第二階傅氏振幅，最後使用耦合波理論求得其光柵之繞射效率。實驗上，使用第一階光柵的繞射效率最大值之曝光時間作為評估第二階光柵的繞射效率之重要參數。此方法將得到不同的曝光強度下最佳的第二階光柵之繞射效率。