陳昇暉

本研究使用自我複製技術(autocloning technique)，並利用電子束蒸鍍系統(E-beam gun evaporation)輔以離子源助鍍(ion-assisted deposition)系統，製作自我複製結構膜層，能快速的鍍製自我複製結構，並能實現大面積鍍製。自我複製式的偏振分光鏡將較於傳統式偏振分光鏡，因其為平面結構，故能用於垂直入射。本研究在設計部分，以有限時域差分法(FDTD method)，FDTD 模擬軟體模擬自我複製結構之頻帶結構與穿透光譜。本研究在模擬方面分兩部分，第一部分為TE波頻帶結構，透過調整結構角度、膜層厚度比例、膜層厚度與基板結構週期，模擬出落在可見光波段內，最佳的頻帶寬度﹔第二部分模擬不同自我複製結構的TM波與TE波穿透光譜，透過調整膜層厚度、基板結構週期與不同膜層設計，並進行膜層厚度的 優化，找出落在可見光波段內，有較大消光比與工作波長之光譜範圍。本研究在製程方面，成功利用干涉微影方法製作基板週期性結構，並利用雙電子束蒸鍍系統輔以離子源助鍍系統，成功鍍製二維自我複製式偏振分光鏡，工作波長在 585 nm 至645 nm之間，垂直入射時，最大消光比落在 638.4 nm 為 115.1，平均消光比為 27.9。