李正中

現今光學鍍膜科技對於光電產業十分重要，許多精密光學元件上，光學薄膜都是不可或缺的部份。為了鍍出符合設計的薄膜，提高產品的良率，在鍍膜過程中，監控法是十分必要的。 本文比較不同監控法後，採用反射係數軌跡監控法。概因反射係數監控法，不論鍍製何種膜堆，皆有一清楚之停鍍點，可以有效幫助停鍍判斷，且應用範圍廣泛，不因膜堆設計之不同而影響停鍍功能。 實驗選擇鍍製抗反射膜，即是為了驗證反射係數監控法之泛用性。同時實驗使用機台為一開發中之鍍膜機，若是可成功鍍製抗反射膜，即表示該機台可於市售之鍍膜機相比較。 由實驗結果得知，反射係數軌跡法鍍製之抗反射膜平均穿透率與設計相比最低誤差為0.05%，最大標準差為1.33%。 實驗之光譜資訊皆是於真空腔體中量測，因反射係數軌跡監控法為直接監控的特性，於鍍膜中量測的光譜，即為當下的鍍膜成效，也表示在鍍完膜時，我們不需破腔體取片量測，就能得知成品的光學資訊。