張榮森

本研究進行平行光式曝光機之光學部分研究與發展；從概念發展介 紹、光源部分的光學模擬、及各個光學元件的組裝技術探討。本研究之平 行光式曝光機以短弧氙氣燈為光源，經過各式光學元件將均勻化後之平行 光做為微影的光源，先以LightTools 設計，再以設計值為藍本，以國產的 光學元件替代普遍以國外進口的曝光機光學元件，做出一台達到業界規範 均勻度4%的125mmX125mm 平行光式曝光機，且從設計到製造全由國內 之廠商完成。本研究所發展之技術可用於PCB 板，FPD 等製程之應用， 相當值得進一步研究與發展。