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[媒體報導]儀科中心攜手新萊應材等促進真空產業升級
資料來源:經濟日報 刊登日期:2017-02-06
儀科中心攜手新萊應材等促進真空產業升級
經濟日報 記者李珣瑛╱即時報導
國研院儀科中心與國內真空組件設備製造商新萊應材科技及虎尾科技大學、中央大學合作,獲得科技部產學合作計畫補助,共同開發「高潔淨真空閘閥組件之微粒檢測系統」,提升國內產業設備及關鍵元組件自主化供應能力,增進國內產業競爭力。
真空技術在食品、機械、高科技產業都有非常廣泛的運用,許多重要設備都與真空技術息息相關。半導體產業平均每年在真空製程設備支出達千億美元之譜,由此可見真空技術在半導體製程設備中扮演著舉足輕重的角色。真空設備的高效能與穩定性攸關製程產品的品質與良率,也因此對於高潔淨真空應用材料的品質要求日趨嚴格。
在真空設備中,「閘閥」為最重要的零組件,閘閥於作動時,所產生的微粒對於真空潔淨度具有相當關鍵的影響。國內半導體產業已要求國內外設備商供應組件產品時,須一併提供作動時所產生之微粒污染評估。因應業界要求,新萊應材積極尋求儀科中心協助,並與虎尾科大、中央大學共同投入「高潔淨真空閘閥組件之微粒檢測系統」之研究。
此計畫是由虎尾科大機械設計系周榮源教授進行檢測系統設計,儀科中心與中央大學光電科學與工程學系陳昇暉教授協助新萊應材建立檢測標準流程,以及微粒尺寸及成份檢測。
該系統主要是針對真空閘閥作動時所產生的次微米微粒,進行監控與成份分析,即時測試各類真空閘閥所可能產生的微粒與污染源,透過數據收集來回饋產品設計端,協助廠商快速了解產品品質,作為改善依據。除此之外,儀科中心以本身標準實驗室的建置基礎與真空系統技術,協助新萊應材建立該系統之特性量測與分析技術標準化,進而建立檢驗相關硬體設施之檢驗程序。